大連理工大學(xué)大面積寫(xiě)場(chǎng)的電子束曝光系統(tǒng)單一來(lái)源采購(gòu)公告

采購(gòu)單位：大連理工大學(xué)

采購(gòu)單位地址：***

采購(gòu)單位聯(lián)系方式***

一、采購(gòu)項(xiàng)目?jī)?nèi)容

      本項(xiàng)目擬采購(gòu)大面積寫(xiě)場(chǎng)的電子束曝光系統(tǒng)，目的是通過(guò)SEM成像，利用電子束對(duì)材料涂層的表面轟擊，達(dá)到材料表面改性的研究。

二、開(kāi)標(biāo)時(shí)間：2020年11月10日 10:00

三、其它補(bǔ)充事宜

單一來(lái)源采購(gòu)原因及相關(guān)說(shuō)明

大連理工大學(xué)光電工程與儀器科學(xué)學(xué)院微納光電子集成器件實(shí)驗(yàn)室擬采購(gòu)一臺(tái)電子束曝光系統(tǒng)，該項(xiàng)目擬用于超材料結(jié)構(gòu)、光子晶體器件、二維材料器件及MEMS等器件的加工。加工設(shè)備需滿足亞10納米尺寸的加工功能，超高分辨率電子束光刻與掃描電鏡成像技術(shù)，大面積器件的拼接套刻功能，且可對(duì)不同種結(jié)構(gòu)進(jìn)行靈活改變處理的能力。Raith公司的PIONEER Two電子束曝光系統(tǒng)具備亞十納米高分辨的曝光功能，該設(shè)備激光級(jí)行程范圍能達(dá)到數(shù)厘米量級(jí)；具有優(yōu)異的低電壓曝光能力，且電壓在20V-30kV之間靈活可調(diào)；集成高分辨激光干涉工作臺(tái)，可實(shí)現(xiàn)大面積納米結(jié)構(gòu)的≤50 nm的高精度拼接套刻工藝。以上產(chǎn)品性能充分符合我實(shí)驗(yàn)室的科研需求。

經(jīng)調(diào)研，國(guó)外市場(chǎng)上其他品牌同類產(chǎn)品不能提供所需的電壓調(diào)節(jié)范圍。國(guó)內(nèi)某些品牌產(chǎn)品寫(xiě)場(chǎng)尺寸過(guò)小達(dá)不到要求，且無(wú)法提供所需的低壓要求。Raith公司的儀器能夠滿足實(shí)驗(yàn)寫(xiě)場(chǎng)尺寸要求，是唯一能提供低壓EBL的設(shè)備，銳時(shí)科技(北京)有限公司是Raith GmbH國(guó)內(nèi)代理商，因此，只能采用單一來(lái)源采購(gòu)方式進(jìn)行采購(gòu)。

四、預(yù)算金額：

預(yù)算金額：450.0000000 萬(wàn)元（人民幣）