脈沖激光沉積系統(tǒng)真空腔體部分招標(biāo)公告

項(xiàng)目名稱：脈沖激光沉積系統(tǒng)真空腔體部分
招標(biāo)編號(hào)：2011-106
招標(biāo)機(jī)構(gòu)名稱: 南京大學(xué)國(guó)有資產(chǎn)管理處
地 址：***
郵 編：210093
電 話：025-83592987；傳 真：***
聯(lián)系人***

南京大學(xué)國(guó)有資產(chǎn)管理處（以下簡(jiǎn)稱“招標(biāo)機(jī)構(gòu)”）具體承辦南京大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院“脈沖激光沉積系統(tǒng)真空腔體部分”招標(biāo)采購(gòu)項(xiàng)目的招標(biāo)采購(gòu)事宜，歡迎有意向的合格投標(biāo)人于2011年9月9日（星期五）上午10點(diǎn)前與設(shè)備采購(gòu)科聯(lián)系。

1．招標(biāo)內(nèi)容： PLD設(shè)備招標(biāo)技術(shù)要求
*1. PLD系統(tǒng)由快速進(jìn)樣室和沉積室兩個(gè)腔體組成，沉積室為圓柱型腔體，外徑16英寸，要求使用AISI 340L不銹鋼制造，全金屬密封。
*2. 要求采用基片和靶材在同一平面上相對(duì)沉積的方式，即基片為豎直放置。
*3. 沉積室配備700 l/s分子泵和無(wú)油前級(jí)卷軸泵（抽速為5.4m3/hr），本底真空度優(yōu)于1×10-8 mbar。要求所配泵均為普發(fā)、瓦里安等國(guó)際知名品牌。
4. 沉積室要配備兩套真空計(jì)，分別為組合pirani/Bayard-Alpert真空計(jì)和Baratron真空計(jì)，其中Baratron真空計(jì)用于薄膜生長(zhǎng)時(shí)的壓力監(jiān)測(cè)。
*5. 進(jìn)樣室配置獨(dú)立的分子泵（抽速70 l/s）和前級(jí)隔膜泵（抽速0.9 m3/hr），并配置組合pirani/ capacitance真空計(jì)用于真空度測(cè)量。
*6. 要求基片和靶材都可以通過(guò)進(jìn)樣室更換。
7. 配備電阻絲式加熱器，最大可加熱1英寸基片。
*8. 加熱器最高溫度可至950℃，溫度穩(wěn)定性達(dá)±1℃，均勻性為±1%。
9. 加熱器可做X/Y/Z位移，X/Y方向位移行程為±12.5 mm, Z方向?yàn)?0 mm（調(diào)節(jié)基片和靶材間距）。
10. 基片可做傾斜和面內(nèi)旋轉(zhuǎn)，精度為0.01 °。
11. 基片前面要求配置手動(dòng)擋板。
*12. 采用紡紗型靶材臺(tái)，整個(gè)靶材臺(tái)可通過(guò)進(jìn)樣室整體更換。
13. 可同時(shí)放置5個(gè)1英寸的靶材。
14. 靶位選擇通過(guò)電腦控制，靶材可自轉(zhuǎn)。
15. 配置兩路工藝氣體，包括質(zhì)量流量控制器和相應(yīng)的氣體管道。
16. 工作氣壓通過(guò)調(diào)節(jié)氣體流量和抽氣速度控制。
17. 配備計(jì)算機(jī)控制軟件。

2．合格投標(biāo)人必須符合《中華人民共和國(guó)政府采購(gòu)法》第二十二條之規(guī)定。
3．條款解釋：本招標(biāo)文件內(nèi)容的解釋權(quán)屬于南京大學(xué)國(guó)有資產(chǎn)管理處。